一種回流焊工藝及其模塊結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111247406.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114029578A | 公開(公告)日 | 2022-02-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114029578A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-11 |
分類號(hào) | B23K3/00(2006.01)I;B23K3/08(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B23K101/40(2006.01)N | 分類 | 機(jī)床;不包含在其他類目中的金屬加工; |
發(fā)明人 | 劉正偉;陳酉冰;錢燕娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江蘇雷博微電子設(shè)備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 江陰市權(quán)益專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 陳強(qiáng) |
地址 | 214437江蘇省無錫市江陰市金山路201號(hào)創(chuàng)智園數(shù)碼港A座一樓東南 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明一種回流焊工藝及其模塊結(jié)構(gòu),包括下加熱盤體、上加熱盤體、裝載單元、冷板單元、旋轉(zhuǎn)傳片單元、上密封腔體、下密封腔體等結(jié)構(gòu)。裝載單元及旋轉(zhuǎn)傳片單元負(fù)責(zé)將晶圓從FOUP中傳遞到下加熱盤體中,進(jìn)行回流工藝時(shí)上密封腔體下降,與下密封腔體形成密封的真空腔體,控制下加熱盤體與上加熱盤體溫度,同時(shí)向腔體內(nèi)填充含有甲酸的氮?dú)猓瓿删A的回流工藝后,冷板單元用于冷卻工藝結(jié)束后的晶圓。本發(fā)明適用于晶圓封裝制程中的回流焊工藝,與傳統(tǒng)的回流焊設(shè)備相比,具有工藝簡(jiǎn)單,產(chǎn)能高,單片的工藝成本低等特點(diǎn)。 |
