一種圖形互補復(fù)合襯底、制備方法及LED外延片
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110276193.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113066908A | 公開(公告)日 | 2021-07-02 |
申請公布號 | CN113066908A | 申請公布日 | 2021-07-02 |
分類號 | H01L33/00;H01L33/22 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張鵬輝;王子榮;羅凱;陳薪安;康凱 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東中圖半導(dǎo)體科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 孟金喆 |
地址 | 523000 廣東省東莞市松山湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)工業(yè)北二路4號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明實施例公開了一種圖形互補復(fù)合襯底、制備方法及LED外延片。該圖形互補復(fù)合襯底的制備方法包括:提供一平片基底;利用第一掩膜版對平片基底進行圖形化,在平片基底的第一表面形成多個第一圖形微結(jié)構(gòu);在平片基底的第一表面形成一層異質(zhì)材料層;利用第二掩膜版對異質(zhì)材料層進行圖形化,形成多個第二圖形微結(jié)構(gòu);第一圖形微結(jié)構(gòu)和第二圖形微結(jié)構(gòu)分別為凸起微結(jié)構(gòu)或凹陷微結(jié)構(gòu);第一圖形微結(jié)構(gòu)和第二圖形微結(jié)構(gòu)在平片基底的第一表面的垂直投影相互不交疊。本發(fā)明可以解決現(xiàn)有圖形化襯底不能滿足LED芯片需求的問題,能夠降低外延層應(yīng)力,改善外延晶體的生長質(zhì)量;同時增加光線的出光效率,提高LED芯片的內(nèi)量子效率和外量子提取率。 |
