一種清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021301346.2 申請日 -
公開（公告）號 CN213134130U 公開（公告）日 2021-05-07
申請公布號 CN213134130U 申請公布日 2021-05-07
分類號 B08B1/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 李衛(wèi)國;陸前軍;王子榮 申請（專利權(quán)）人 廣東中圖半導(dǎo)體科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 胡彬
地址 523000廣東省東莞市松山湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)工業(yè)北二路4號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種清洗設(shè)備，屬于半導(dǎo)體晶片清洗技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型所提供的清洗設(shè)備包括有機(jī)溶劑清洗機(jī)構(gòu)、洗刷機(jī)構(gòu)和中間轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)，有機(jī)溶劑清洗機(jī)構(gòu)包括第一旋轉(zhuǎn)座和有機(jī)溶劑噴頭組件，第一旋轉(zhuǎn)座能夠帶動其上的待清洗晶片進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，有機(jī)溶劑噴頭組件能夠向待清洗晶片噴灑有機(jī)清洗溶劑，洗刷機(jī)構(gòu)包括第二旋轉(zhuǎn)座、沖洗噴頭組件和刷頭組件，第二旋轉(zhuǎn)座能夠帶動其上的待清洗晶片進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，刷頭組件能夠洗刷待清洗晶片，沖洗噴頭組件向待清洗晶片噴灑清洗水，中間轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)用于實(shí)現(xiàn)待清洗晶片在第一旋轉(zhuǎn)座和第二旋轉(zhuǎn)座之間的轉(zhuǎn)移。該清洗設(shè)備能夠自動完成對晶片的清洗，不僅能夠節(jié)省人力和物力，提高清洗效率，且清洗效果好。??