柔性低輻射窗膜及其生產(chǎn)實時控制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200310110607.7 申請日 -
公開（公告）號 CN1314830C 公開（公告）日 2007-05-09
申請公布號 CN1314830C 申請公布日 2007-05-09
分類號 C23C14/06(2006.01);C23C14/20(2006.01);C23C14/35(2006.01);C23C14/56(2006.01) 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 彭傳才;李京增;魏敏;胡云慧;余圣發(fā);鐘碧城;胡浩龍 申請（專利權(quán)）人 湖南三才光電信息材料有限公司
代理機構(gòu) 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 代理人 馬強
地址 410007湖南省長沙市芙蓉南路292號華順大廈八樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種柔性低輻射窗膜，它由鍍制在透明柔性基材上的多層薄膜構(gòu)成，該多層薄膜的膜系結(jié)構(gòu)是SiOx-SSOx-AgAu-ITO或SiOx-SSOx-AgAu-ITO-AgAu-ITO，其中，AgAu膜層為在銀中摻入重量比為15％—20％且均勻分布的金所組成的銀合金。所述窗膜的實時監(jiān)控方法是在多靶磁控濺射卷繞鍍膜機收料輥一側(cè)沿基膜橫向安裝多個發(fā)光二極管發(fā)射-接收探頭且這些探頭的發(fā)射光與所述基膜運行方向垂直，所述光接收探頭的輸出信號經(jīng)放大器放大再由模數(shù)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信息送至單片計算機進行比較處理后，通過接口與上位機聯(lián)接，由其控制靶功率輸出，從而實時控制連續(xù)多層鍍膜的厚度。