光刻機(jī)照明光瞳偏振態(tài)測量用光學(xué)系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510155835.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104777609B | 公開(公告)日 | 2018-07-13 |
申請公布號 | CN104777609B | 申請公布日 | 2018-07-13 |
分類號 | G02B27/00;G03F7/20 | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 蔡燕民;王向朝;步揚(yáng);唐鋒;黃惠杰 | 申請(專利權(quán))人 | 北京國望光學(xué)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海恒慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所;北京國望光學(xué)科技有限公司 |
地址 | 201800 上海市嘉定區(qū)上海市800-211郵政信箱 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種光刻機(jī)照明光瞳偏振態(tài)測量用光學(xué)系統(tǒng),沿所述光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向依次包括:孔徑光闌、傅里葉變換物鏡、四分之一波片、檢偏器、中繼物鏡、像傳感器,該光學(xué)系統(tǒng)用于將針孔掩模版圖形面內(nèi)的針孔變換到像傳感器的靶面(即光敏面)內(nèi)。本發(fā)明能滿足像傳感器尺寸、四分之一波片和檢偏器的位置與尺寸要求,物方視場角較大、后工作距較長,整體結(jié)構(gòu)緊湊;并且滿足正弦條件的要求,球差、彗差、象散、場曲、波像差等都得到很好的校正。 |
