蒸發(fā)鍍膜設(shè)備及基材的鍍膜方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110168139.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112725760A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-04-30 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112725760A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-30 |
| 分類號(hào) | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/35;C23C14/54 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 郭敏;張萬(wàn)財(cái) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廈門(mén)海辰新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 周宇 |
| 地址 | 361000 福建省廈門(mén)市火炬高新區(qū)火炬園火炬路56-58號(hào)火炬廣場(chǎng)南樓420-5 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N蒸發(fā)鍍膜設(shè)備及基材的鍍膜方法，屬于蒸發(fā)鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備包括沿基材的輸送路徑依次設(shè)置的用于對(duì)基材的同一表面進(jìn)行鍍膜的至少兩組鍍膜組件。每組鍍膜組件包括主冷輥和蒸鍍裝置，蒸鍍裝置被配置成對(duì)基材進(jìn)行鍍膜，主冷輥被配置成對(duì)基材進(jìn)行冷卻。該蒸發(fā)鍍膜設(shè)備能夠減少超薄基材(厚度小于8μm的基材)在鍍膜的過(guò)程中的穿孔的可能性，可以使鍍膜效果更好。 |
