蒸發(fā)鍍膜設(shè)備及基材的鍍膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110168139.7 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN112725760A 公開（公告）日 2021-04-30
申請公布號(hào) CN112725760A 申請公布日 2021-04-30
分類號(hào) C23C14/56;C23C14/24;C23C14/35;C23C14/54 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 郭敏;張萬財(cái) 申請（專利權(quán)）人 廈門海辰新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 周宇
地址 361000 福建省廈門市火炬高新區(qū)火炬園火炬路56-58號(hào)火炬廣場南樓420-5
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)峁┮环N蒸發(fā)鍍膜設(shè)備及基材的鍍膜方法，屬于蒸發(fā)鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備包括沿基材的輸送路徑依次設(shè)置的用于對(duì)基材的同一表面進(jìn)行鍍膜的至少兩組鍍膜組件。每組鍍膜組件包括主冷輥和蒸鍍裝置，蒸鍍裝置被配置成對(duì)基材進(jìn)行鍍膜，主冷輥被配置成對(duì)基材進(jìn)行冷卻。該蒸發(fā)鍍膜設(shè)備能夠減少超薄基材(厚度小于8μm的基材)在鍍膜的過程中的穿孔的可能性，可以使鍍膜效果更好。