一種小溝道電阻的HEMT器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202123398033.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN216528895U | 公開(公告)日 | 2022-05-13 |
申請公布號 | CN216528895U | 申請公布日 | 2022-05-13 |
分類號 | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李晉;楊淞義;高欣源;鐘敏;袁松;鈕應(yīng)喜;趙海明;趙清;單衛(wèi)平 | 申請(專利權(quán))人 | 安徽長飛先進半導(dǎo)體有限公司 |
代理機構(gòu) | 蕪湖安匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 241000安徽省蕪湖市弋江區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)服務(wù)外包園3號樓1803 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,具體來說是一種小溝道電阻的HEMT器件,包括襯底,所述襯底上設(shè)有緩沖層;所述緩沖層上設(shè)有溝道層;所述溝道層上設(shè)有勢壘層;所述勢壘層上具有源極、柵極以及漏極;所述柵極與勢壘層之間設(shè)有P?GaN層;所述源極與柵極以及柵極與漏極之間設(shè)有基礎(chǔ)介質(zhì)層,所述基礎(chǔ)介質(zhì)層上刻蝕有多個溝槽,所述溝槽內(nèi)生長有填充介質(zhì)層。本實用新型公開了一種小溝道電阻的HEMT器件;本實用新型通過改變介質(zhì)層的壓應(yīng)力方式來調(diào)節(jié)勢壘層受到的應(yīng)力作用,介質(zhì)層起到調(diào)節(jié)溝道2DEG的作用;進而減小溝道電阻,改善頻率特性。 |
