鍍鍋

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202123157376.8 申請日 -
公開（公告）號 CN216585176U 公開（公告）日 2022-05-24
申請公布號 CN216585176U 申請公布日 2022-05-24
分類號 C23C14/24（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 季韜;白明月;趙清;王敬;單衛(wèi)平;鈕應喜;袁松 申請（專利權(quán)）人 安徽長飛先進半導體有限公司
代理機構(gòu) 蕪湖安匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 241000安徽省蕪湖市弋江區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)服務外包園3號樓1803
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種鍍鍋，包括鍍鍋本體、用于裝載晶圓片的載片盤和設置于所述鍍鍋本體上且用于調(diào)節(jié)載片盤的角度的調(diào)節(jié)機構(gòu)。本實用新型的鍍鍋，載片盤角度可調(diào)節(jié)，保證了蒸發(fā)入射角度也是可以調(diào)節(jié)的，從使得金屬線條的角度有較大的選擇性，增加工藝窗口的選擇性，提高鍍鍋的適應性。