同時(shí)含有負(fù)電荷及疏水基團(tuán)的聚合物超分子體系及其應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011611023.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112538169A 公開（公告）日 2021-03-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN112538169A 申請(qǐng)公布日 2021-03-23
分類號(hào) A61K47/34(2017.01)I;C08F220/58(2006.01)I;C08G83/00(2006.01)I;C08F220/28(2006.01)I;A61Q19/00(2006.01)I;A61K8/91(2006.01)I;A61K47/32(2006.01)I;C08F283/08(2006.01)I;C08F220/20(2006.01)I 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 秦旭;李駿;湯小蘇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州諾莘科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州天勤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 胡紅娟
地址 311400浙江省杭州市富陽區(qū)銀湖街道高爾夫路83號(hào)第六幢三樓305室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種同時(shí)含有負(fù)電荷及疏水基團(tuán)的聚合物超分子體系及其在護(hù)膚品、化妝品、個(gè)人護(hù)理產(chǎn)品和生物醫(yī)藥制品中的應(yīng)用。該聚合物超分子體系同時(shí)具有如下式(I)和(II)所示的結(jié)構(gòu)單元：每個(gè)如式(I)所示的結(jié)構(gòu)單元中，R1獨(dú)立選自H或甲基；每個(gè)如式(II)所示的結(jié)構(gòu)單元中，R1’獨(dú)立選自H或甲基，R2獨(dú)立選自H或C12?C36的烷基，n獨(dú)立選自0?100的整數(shù)。??