同時含有負電荷及疏水基團的聚合物超分子體系及其應用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011611023.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112538169A | 公開(公告)日 | 2021-03-23 |
申請公布號 | CN112538169A | 申請公布日 | 2021-03-23 |
分類號 | A61K47/34(2017.01)I;C08F220/58(2006.01)I;C08G83/00(2006.01)I;C08F220/28(2006.01)I;A61Q19/00(2006.01)I;A61K8/91(2006.01)I;A61K47/32(2006.01)I;C08F283/08(2006.01)I;C08F220/20(2006.01)I | 分類 | 有機高分子化合物;其制備或化學加工;以其為基料的組合物; |
發(fā)明人 | 秦旭;李駿;湯小蘇 | 申請(專利權(quán))人 | 杭州諾莘科技有限責任公司 |
代理機構(gòu) | 杭州天勤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 胡紅娟 |
地址 | 311400浙江省杭州市富陽區(qū)銀湖街道高爾夫路83號第六幢三樓305室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種同時含有負電荷及疏水基團的聚合物超分子體系及其在護膚品、化妝品、個人護理產(chǎn)品和生物醫(yī)藥制品中的應用。該聚合物超分子體系同時具有如下式(I)和(II)所示的結(jié)構(gòu)單元:每個如式(I)所示的結(jié)構(gòu)單元中,R1獨立選自H或甲基;每個如式(II)所示的結(jié)構(gòu)單元中,R1’獨立選自H或甲基,R2獨立選自H或C12?C36的烷基,n獨立選自0?100的整數(shù)。?? |
