一種硅管濺射靶材的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011284440.6 申請日 -
公開（公告）號 CN112410737A 公開（公告）日 2021-02-26
申請公布號 CN112410737A 申請公布日 2021-02-26
分類號 C23C14/34(2006.01)I;C01B33/02(2006.01)I;C01B33/037(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉耀文;黃軍浩 申請（專利權(quán)）人 光洋新材料科技（昆山）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 湯東鳳
地址 215000江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)吳淞江工業(yè)園晨豐路南側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開的屬于硅管濺射靶材技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種硅管濺射靶材的制備方法，包括金屬硅與金屬元素添加劑，其中各成分質(zhì)量份數(shù)為：金屬硅：96?98份；金屬元素添加劑：2?4份；還包括以下步驟：S1，使用超聲波設(shè)備對金屬硅進(jìn)行清洗，并將金屬硅通過兩次球磨變成硅粉；S2，使用混合裝置將金屬硅和金屬元素添加劑混合均勻，得到混合粉末；S3，將混合粉末裝入冷等靜壓模具的管形空腔中，通過三次靜壓工藝壓制硅粉成管狀，然后脫去冷等靜壓模具得到硅管坯，對硅管坯端頭及外表面進(jìn)行修整；本發(fā)明結(jié)構(gòu)設(shè)計科學(xué)合理，對基材具有更為優(yōu)秀的比抗阻、應(yīng)力和耐腐蝕性能，使用中將更加可靠。??