掩膜板及其制造方法、對壓電噴頭進(jìn)行鍍電極的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201711393282.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN108130511A | 公開(公告)日 | 2018-06-08 |
申請公布號 | CN108130511A | 申請公布日 | 2018-06-08 |
分類號 | C23C14/04;C23C14/24 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 王貝貝;胡兆斌;向永嘉 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州英捷飛微機(jī)電有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京利豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 蘇州英捷飛微機(jī)電有限公司 |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市吳中區(qū)木瀆鎮(zhèn)楓華商業(yè)廣場2幢1246室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 公開了一種掩膜板及其制造方法、對壓電噴頭進(jìn)行鍍電極的方法。其中,所述掩膜板在其厚度方向上貫穿設(shè)有多個通孔,所述掩膜板在使用時位于陣列排布的噴嘴的頂部且所述通孔與所述噴嘴之間的間隙對應(yīng),所述掩膜板的厚度在遠(yuǎn)離蒸發(fā)源的且與所述噴嘴上用于鍍電極的表面垂直的第一方向上呈逐漸變小的趨勢,以使所述蒸發(fā)源透過所述掩膜板上的多個通孔鍍到各個噴嘴側(cè)壁的電極長度一致。 |
