一種靜態(tài)數(shù)據(jù)脫敏方法及脫敏裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911021041.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110781515A 公開（公告）日 2020-02-11
申請公布號 CN110781515A 申請公布日 2020-02-11
分類號 G06F21/62;G06F16/11;G06F16/23 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 仇軍 申請（專利權(quán)）人 上海凱馨信息科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上?；ロ槍＠硎聞?wù)所（普通合伙） 代理人 上海凱馨信息科技有限公司
地址 201609 上海市松江區(qū)葉榭鎮(zhèn)葉旺路1號三樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種靜態(tài)數(shù)據(jù)脫敏方法及脫敏裝置，支持SLM和UPM兩種脫敏方式。其中SLM方式包括如下步驟：與源數(shù)據(jù)端建立連接，自動完成隱私全量發(fā)現(xiàn)；梳理、調(diào)整隱私發(fā)現(xiàn)結(jié)果；與目標(biāo)數(shù)據(jù)端建立連接；創(chuàng)建脫敏任務(wù)，選擇源數(shù)據(jù)端及目標(biāo)數(shù)據(jù)端，配置脫敏參數(shù)；啟動脫敏任務(wù)，實時監(jiān)控數(shù)據(jù)脫敏執(zhí)行情況。UPM方式僅處理隱私字段，脫敏效率更高。本發(fā)明基于流式處理、全程數(shù)據(jù)不落地，可自動發(fā)現(xiàn)隱私類型，支持同構(gòu)/異構(gòu)、脫敏過程自定義配置等，使得脫敏過程安全可控、且提升了效率和靈活度；并綜合運用高仿真的脫敏算法和數(shù)據(jù)水印、反向脫敏等技術(shù)，保留了原始數(shù)據(jù)的業(yè)務(wù)價值，同時避免敏感信息泄露，實現(xiàn)脫敏結(jié)果可控、可追溯。