一種光學一致透明導電薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910689170.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110415865A 公開（公告）日 2019-11-05
申請公布號 CN110415865A 申請公布日 2019-11-05
分類號 H01B5/14（2006.01）I; H01B13/00（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 劉騰蛟; 蘇燕平; 李鑫; 胡源 申請（專利權）人 江蘇納美達光電科技有限公司
代理機構 北京方安思達知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 北京華納高科科技有限公司
地址 101111 北京市大興區(qū)亦莊經(jīng)濟開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十四街99號，匯龍森科技園7號樓一單元502
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光學一致透明導電薄膜及其制備方法，解決了金屬納米線透明導電薄膜后刻蝕痕明顯、光穩(wěn)定性差、納米材料易被腐蝕和金屬離子遷移的問題。添加折射率可匹配且耐腐蝕性高的納米顆粒、附加光學補償層、使用帶有防眩層的基底等方式可解決金屬納米線導電薄膜后處理刻蝕痕明顯的問題；通過使用電學補償層提供一種整版導電的透明導電薄膜，提高其耐腐蝕性；保護液中加入紫外穩(wěn)定劑提高了導電膜的光穩(wěn)定性；保護液中的抗氧化劑、樹狀高分子和絡合劑解決了納米材料易被腐蝕和金屬離子遷移的問題。