一種涂布系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202123447150.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN216988369U | 公開(公告)日 | 2022-07-19 |
申請公布號 | CN216988369U | 申請公布日 | 2022-07-19 |
分類號 | B05C5/02(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I;H01M4/04(2006.01)I | 分類 | 一般噴射或霧化;對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕; |
發(fā)明人 | 許玉山;彭建林;劉錚 | 申請(專利權)人 | 深圳市曼恩斯特科技股份有限公司 |
代理機構 | 北京三聚陽光知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 518118廣東省深圳市坪山區(qū)龍?zhí)锝值乐窨由鐓^(qū)第三工業(yè)區(qū)C區(qū)3號廠房101~201 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及電池漿料涂布的技術領域,具體涉及一種涂布系統(tǒng),包括運輸輥和涂布模頭,所述涂布模頭對繞過所述運輸輥的基材進行涂布,涂布系統(tǒng)還包括間距調節(jié)機構和間距微調機構,間距調節(jié)機構設置在所述涂布模頭的底端并適于驅動所述涂布模頭初步移動;間距微調機構設置在所述涂布模頭的一側,并適于驅動所述涂布模頭再次微量移動。通過間距調節(jié)機構先初步移動涂布模頭,實現(xiàn)涂布唇口與運輸輥間距的初步調節(jié)。然后再次啟動間距微調機構,間距微調機構驅動涂布模頭再次微量移動,使得涂布模頭距離除了整體的變化外,在涂布模頭橫向的分布也保持一致。通過間距調節(jié)機構和間距微調機構的調節(jié)作用,保證了涂布模頭的涂布穩(wěn)定性。 |
