金紅石疏水薄膜的強化直流磁控濺射制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN00127814.2 申請日 -
公開（公告）號 CN1118587C 公開（公告）日 2003-08-20
申請公布號 CN1118587C 申請公布日 2003-08-20
分類號 C23C14/35;C23C14/08;C01G23/047 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王輝 申請（專利權(quán)）人 杉杉集團有限公司
代理機構(gòu) 上海交達專利事務(wù)所 代理人 毛翠瑩
地址 200122上海市浦東東方路985號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種金紅石疏水薄膜的強化直流磁控濺射制備方法，其特征在于強化直流濺射條件，采用高磁控鈦靶濺射，并結(jié)合高濺射電流密度、高基板溫度、低工作氣壓及高氧分壓條件，以保證充分的電離和沉積薄膜的氧化，并使濺射穩(wěn)定，提高沉積率。本發(fā)明制備的二氧化鈦薄膜為含少量銳鈦礦的金紅石多晶結(jié)構(gòu)，具有良好的耐摩擦性和疏水特性，表面附著力非常好，可用于玻璃鏡片、陶瓷，幕墻玻璃和汽車后視鏡等材料的表面鍍膜，也可用于制備某些生物醫(yī)藥材料。