多晶硅生產(chǎn)用氫氣、除雜方法及系統(tǒng)、多晶硅生產(chǎn)方法及系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110501053.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113321183A | 公開(公告)日 | 2021-08-31 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113321183A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-31 |
分類號(hào) | C01B3/52(2006.01)I;C01B3/50(2006.01)I;C30B35/00(2006.01)I | 分類 | 無機(jī)化學(xué); |
發(fā)明人 | 武珠峰;吳昌勇;宋高杰;張治錦;劉興平;宋正平;潘從偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 新特能源股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 羅建民;鄧伯英 |
地址 | 014100內(nèi)蒙古自治區(qū)包頭市土默特右旗新型工業(yè)園區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種多晶硅生產(chǎn)用氫氣、除雜方法及系統(tǒng)、多晶硅生產(chǎn)方法及系統(tǒng),除雜方法包括以下步驟:將多晶硅生產(chǎn)用氫氣通入沸騰的三氯氫硅中,以使其內(nèi)部分水與三氯氫硅反應(yīng),從三氯氫硅中逸出的氣相再與噴淋而下的霧化的三氯氫硅接觸,以使其內(nèi)剩余水蒸氣與三氯氫硅反應(yīng),得到除水的氣相;所述除水的氣相再經(jīng)冷凝,以將其內(nèi)的汽化三氯氫硅液化,得到除雜的多晶硅生產(chǎn)用氫氣。本發(fā)明能在不引入外界雜質(zhì)的前提下,將多晶硅生產(chǎn)用氫氣中的水分干燥至1PPm以下。 |
