一種光學(xué)零件切割冷卻裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | 2020209622970 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212399983U | 公開（公告）日 | 2021-01-26 |
| 申請公布號 | CN212399983U | 申請公布日 | 2021-01-26 |
| 分類號 | B28D7/02(2006.01)I | 分類 | 加工水泥、黏土或石料; |
| 發(fā)明人 | 樊岳林 | 申請（專利權(quán)）人 | 浙江臺佳電子信息科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 杭州裕陽聯(lián)合專利代理有限公司 | 代理人 | 姚宇吉 |
| 地址 | 317000浙江省臺州市臨海市大洋街道經(jīng)濟開發(fā)區(qū)臨海大道1968號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型涉及一種光學(xué)零件切割冷卻裝置，下蓋板的外周設(shè)有外框，所述上蓋板靠近下蓋板的一側(cè)設(shè)有多個上隔板，所述下蓋板靠近上蓋板的一側(cè)設(shè)有多個下隔板，所述下隔板在下蓋板上形成多個容納腔，所述上隔板在上蓋板上形成多個與容納腔連通的第一傳輸腔，相鄰所述下隔板之間形成與第一傳輸腔連通的第二傳輸腔，所述下蓋板上設(shè)有多個與第二傳輸腔連通的出料腔，所述下蓋板上設(shè)有多個與出料腔連通的出料口。砂液進(jìn)入到容納腔，容納腔內(nèi)的砂液通過第一傳輸腔進(jìn)行緩慢分散到第二傳輸腔內(nèi)，再進(jìn)入到出料腔內(nèi)，最后從出料口分散開，均勻噴淋到切割晶片上，如此可以有效提高砂液噴淋的均勻性，避免了光學(xué)晶片在切割過程中冷卻不均勻?qū)е麦@裂的問題。?? |
