一種光學(xué)零件切割冷卻裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> 2020209622970 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN212399983U 公開(公告)日 2021-01-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN212399983U 申請(qǐng)公布日 2021-01-26
分類號(hào) B28D7/02(2006.01)I 分類 加工水泥、黏土或石料;
發(fā)明人 樊岳林 申請(qǐng)(專利權(quán))人 浙江臺(tái)佳電子信息科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州裕陽(yáng)聯(lián)合專利代理有限公司 代理人 姚宇吉
地址 317000浙江省臺(tái)州市臨海市大洋街道經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)臨海大道1968號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)零件切割冷卻裝置,下蓋板的外周設(shè)有外框,所述上蓋板靠近下蓋板的一側(cè)設(shè)有多個(gè)上隔板,所述下蓋板靠近上蓋板的一側(cè)設(shè)有多個(gè)下隔板,所述下隔板在下蓋板上形成多個(gè)容納腔,所述上隔板在上蓋板上形成多個(gè)與容納腔連通的第一傳輸腔,相鄰所述下隔板之間形成與第一傳輸腔連通的第二傳輸腔,所述下蓋板上設(shè)有多個(gè)與第二傳輸腔連通的出料腔,所述下蓋板上設(shè)有多個(gè)與出料腔連通的出料口。砂液進(jìn)入到容納腔,容納腔內(nèi)的砂液通過(guò)第一傳輸腔進(jìn)行緩慢分散到第二傳輸腔內(nèi),再進(jìn)入到出料腔內(nèi),最后從出料口分散開,均勻噴淋到切割晶片上,如此可以有效提高砂液噴淋的均勻性,避免了光學(xué)晶片在切割過(guò)程中冷卻不均勻?qū)е麦@裂的問(wèn)題。??