一種并發(fā)式氣體二氧化氯發(fā)生裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202020477314.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN211998814U | 公開(公告)日 | 2020-11-24 |
申請公布號 | CN211998814U | 申請公布日 | 2020-11-24 |
分類號 | C01B11/02(2006.01)I | 分類 | 無機化學; |
發(fā)明人 | 鄧元龍;李洲;王健 | 申請(專利權(quán))人 | 北京誠益通萬杰朗生物科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京悅和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 司麗春 |
地址 | 102600北京市大興區(qū)中關村科技園區(qū)大興生物醫(yī)藥產(chǎn)業(yè)基地慶豐西路27號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種并發(fā)式氣體二氧化氯發(fā)生裝置,包括腔體和腔體上蓋,所述腔體上蓋與腔體的頂部螺接固定;所述腔體為長方體結(jié)構(gòu),所述腔體內(nèi)設有S型的腔體風道,所述腔體風道的兩側(cè)分別設有反應腔,所述腔體風道一端的底部設有腔體進風口,所述腔體風道另一端的側(cè)壁設有腔體出風口;所述腔體上蓋與反應腔對應的位置設有反應劑注入口。通過設置多個反應腔,且多個反應腔之間注入反應劑有時間間隔,從而提高腔體內(nèi)整體參與反應的反應劑計量,更加高效的產(chǎn)生氣體二氧化氯??梢酝ㄟ^控制多個反應腔之間注入反應劑的時間間隔,消除掉反應腔內(nèi)排液和加注過程帶來的氣體二氧化氯發(fā)生空窗期,從而可以實現(xiàn)連續(xù)、平穩(wěn)產(chǎn)生氣體二氧化氯。?? |
