一種基于無掩膜光刻機的數(shù)字掩膜版工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110344156.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113064330A 公開（公告）日 2021-07-02
申請公布號 CN113064330A 申請公布日 2021-07-02
分類號 G03F7/20 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 馮捷;吳陽;嚴振中;劉威 申請（專利權）人 赫智科技（蘇州）有限公司
代理機構 北京同輝知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 廖娜
地址 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)若水路388號H402室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種基于無掩膜光刻機的數(shù)字掩膜版工藝，將已經(jīng)設計的圖形采用軟件處理生成黑白二值的位圖圖像，接著傳入DMD，利用DMD的特性使紫外光對應位圖圖像的部分反射，黑色區(qū)域不會反射紫外光，白色區(qū)域反射紫外光，使樣品得到正確的曝光，完成光刻。本發(fā)明能實現(xiàn)高效的光刻，提高工作效率的同時，還能提高精確性。