高透抗污全拋釉及使用其的拋釉磚的制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011580515.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112592059A | 公開(公告)日 | 2021-04-02 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112592059A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-02 |
分類號(hào) | C03C8/00(2006.01)I;C04B41/89(2006.01)I | 分類 | 玻璃;礦棉或渣棉; |
發(fā)明人 | 謝岳榮;霍振輝;徐鵬飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 肇慶樂(lè)華陶瓷潔具有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 胡楓;李素蘭 |
地址 | 526200廣東省肇慶市四會(huì)市下茆鎮(zhèn)龍灣陶瓷城內(nèi) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了高透抗污全拋釉及使用其的拋釉磚的制備方法,按照質(zhì)量份數(shù),高透抗污全拋釉包括以下原料:長(zhǎng)石32~43份、石英7~10份、方解石6~10份、白云石8~12份、硅灰石4~7份、燒滑石3~5份、碳酸鋇3~5份、碳酸鍶10~12份、氧化鋅4~6份和高嶺土7~10份。本技術(shù)方案提出的一種高透抗污全拋釉,通過(guò)對(duì)全拋釉配方結(jié)構(gòu)進(jìn)行調(diào)整,有利于減少燒制后的全拋釉層的雜質(zhì)并提升其通透性,且釉層拋后的防污性能優(yōu)異,以克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處。進(jìn)而提出的一種使用上述高透抗污全拋釉的拋釉磚的制備方法,工藝簡(jiǎn)單,操作性強(qiáng),拋釉磚在燒制時(shí)不易產(chǎn)生氣泡及晶體顆粒,有利于提升瓷磚透感。?? |
