一種環(huán)氧型負(fù)性厚膜光刻膠及其制備與使用方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911170357.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111007696A | 公開(公告)日 | 2020-04-14 |
申請公布號 | CN111007696A | 申請公布日 | 2020-04-14 |
分類號 | G03F7/004(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 劉平;劉永生;孫友松;冉瑞成;毛國平;傅志偉 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇漢拓光學(xué)材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海智晟知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 江蘇漢拓光學(xué)材料有限公司 |
地址 | 201612上海市松江區(qū)中心路1158號9號樓4-5樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種環(huán)氧型負(fù)性厚膜光刻膠,其包括以下質(zhì)量百分比的組成:環(huán)氧樹脂10~80%;光致產(chǎn)酸劑3~6%;聚合型縮水甘油醚添加劑1~5%;流平劑100~3000ppm;溶劑余量。本申請還涉及上述環(huán)氧型負(fù)性厚膜光刻膠的制備與使用方法。本發(fā)明顯著改善了該厚膜光刻膠的膠膜開裂缺陷,擴(kuò)大了應(yīng)用范圍。本發(fā)明涉及的光刻膠涂膜厚度大約10?200um,適合制備具有高深寬比的微結(jié)構(gòu)的電路或器件。?? |
