一種涂膠機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120564247.1 申請日 -
公開（公告）號 CN214151371U 公開（公告）日 2021-09-07
申請公布號 CN214151371U 申請公布日 2021-09-07
分類號 G03F7/16（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 曹永茂;王吉剛;陳文卓;冷正超 申請（專利權(quán)）人 山東華菱電子股份有限公司
代理機構(gòu) 威?？菩菍＠聞?wù)所 代理人 初姣姣
地址 264200山東省威海市高技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)火炬路159號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及涂膠設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體的說是一種特別適用于半導(dǎo)體電路圖像化處理工藝中薄片基板用的涂膠機，其特征在于，支撐輥由第一支撐組件承托，涂膠輥由第二支撐組件承托，所述第一支撐組件中包括對稱設(shè)置在工作臺上的左側(cè)立板、右側(cè)立板，以及固定于左側(cè)立板和右側(cè)立板頂部的支撐橫梁；第二支撐組件包括第二左立板和第二右立板，其中第二左立板與第二右立板的上端分別經(jīng)高度調(diào)節(jié)螺桿與支撐橫梁相連；支撐輥由支撐電動機驅(qū)動，涂膠輥由涂膠電動機驅(qū)動，支撐輥與涂膠輥轉(zhuǎn)動方向相反，本實用新型在基板表面涂布的光刻膠膠厚均勻，且涂膠過程中涂膠輥與支撐輥表面不接觸，避免光刻膠污染，極大地改善涂膠產(chǎn)品品質(zhì)。