一種快速空間反射率分布測量裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020533015.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211927696U | 公開（公告）日 | 2020-11-13 |
| 申請公布號 | CN211927696U | 申請公布日 | 2020-11-13 |
| 分類號 | G01N21/55(2014.01)I;G01N21/01(2006.01)I | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 潘建根;李倩;沈思月 | 申請（專利權(quán)）人 | 遠(yuǎn)方譜色科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 311200浙江省杭州市蕭山區(qū)蕭山經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)紅墾農(nóng)場墾輝六路739號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開一種快速空間反射率分布測量裝置，包括外罩，樣品臺，待測樣品，一個或以上的照明光源，及成像測量裝置，其中，外罩的內(nèi)表面設(shè)有漫反射涂層；待測樣品放置在樣品臺上；外罩上設(shè)置有一個或以上的入射窗口；照明光源的光束通過入射窗口照射待測樣品，并經(jīng)待測樣品反射至外罩的內(nèi)表面；成像測量裝置靠近樣品臺設(shè)置，且成像測量裝置的視場角部分或覆蓋照明光源經(jīng)待測樣品反射后在外罩的內(nèi)表面形成的像。通過成像測量裝置對待測樣品受照明光源照射后在外罩內(nèi)表面的像進行拍攝，來快速獲得待測樣品在各個方位角的反射值，不僅可以避免多方位測量定位精度的影響，同時也大大提高了測量效率。?? |
