一種磁控靶材冷卻水水排
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021540848.0 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212864952U | 公開（公告）日 | 2021-04-02 |
| 申請公布號(hào) | CN212864952U | 申請公布日 | 2021-04-02 |
| 分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 溫泉;池永奎;肖平;張?jiān)?/td> | 申請（專利權(quán)）人 | 浙江日久新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州中利知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 賴學(xué)能 |
| 地址 | 314300浙江省嘉興市海鹽縣西塘橋街道(海鹽經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū))銀灘路189號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種磁控靶材冷卻水水排，包括支撐架、水排主管、水排支路管、總進(jìn)水孔、總進(jìn)水管、排水管和抗震支撐底座，所述支撐架上設(shè)有水排主管，所述水排主管的底部設(shè)有若干水排支路管，所述水排支路管的頂端位于水排主管內(nèi)部且水排支路管的頂端高于水排主管的底部，所述水排主管的后側(cè)設(shè)有總進(jìn)水孔，所述總進(jìn)水孔上設(shè)有總進(jìn)水管，所述水排主管的頂部設(shè)有排水管，所述支撐架的底部設(shè)有抗震支撐底座，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)計(jì)合理，能有效避免冷卻水中的雜質(zhì)通過水排支路管進(jìn)入到設(shè)備內(nèi)部，造成水管堵塞，從而降低了維護(hù)頻率，增加了生產(chǎn)效率。?? |
