一種偏光片用抗靜電光學(xué)離型膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110543121.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113308007A 公開（公告）日 2021-08-27
申請公布號 CN113308007A 申請公布日 2021-08-27
分類號 C08J7/04（2020.01）I;C08J7/044（2020.01）I;C09D183/07（2006.01）I;C09D5/20（2006.01）I;C09D5/24（2006.01）I;C09D7/62（2018.01）I;C09D7/65（2018.01）I;C08L67/02（2006.01）I 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 裴建軍 申請（專利權(quán)）人 浙江日久新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州中利知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉昕
地址 314300浙江省嘉興市海鹽縣西塘橋街道（海鹽經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)）銀灘路189號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種偏光片用抗靜電光學(xué)離型膜，自上而下包括離型層、基材層和抗靜電層，所述離型層包括以下重量份的組分：乙烯基聚二甲基硅氧烷20?40份，含氫聚硅氧烷3?8份，錨固劑0.5?1.5份，化學(xué)改性無機(jī)粒子0.05?0.2份，氟改性有機(jī)硅樹脂3?8份，鉑催化劑2?4份，有機(jī)溶劑130份。本發(fā)明具有離型力穩(wěn)定、快速剝離力低、抗靜電性、高透光率、高殘余接著率等特點(diǎn)，主要用于偏光片類產(chǎn)品的壓敏膠層保護(hù)和運(yùn)輸使用，不會在偏光片運(yùn)輸和下游制成中產(chǎn)生靜電吸附灰塵，不會在使用中產(chǎn)生氣泡不良，也不會在下游制成過程中快速剝離離型膜產(chǎn)生剝離不良，影響良率。