一種水下干式高壓環(huán)境下的GMAW熔滴過渡圖像拍攝系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510250658.2 申請日 -
公開（公告）號 CN104954739B 公開（公告）日 2018-11-02
申請公布號 CN104954739B 申請公布日 2018-11-02
分類號 H04N7/18;H04N5/232 分類 電通信技術(shù);
發(fā)明人 馬正住;朱加雷;周燦豐;焦向東;李衛(wèi)強;賈存鋒;石庭深;王紀(jì)兵;馮艷鵬 申請（專利權(quán)）人 國千科技集團(tuán)有限公司
代理機構(gòu) 北京凱特來知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 鄭立明;趙鎮(zhèn)勇
地址 102600 北京市大興區(qū)黃村清源北路19號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種水下干式高壓環(huán)境下的GMAW熔滴過渡圖像拍攝系統(tǒng)，在高壓焊接試驗艙內(nèi)設(shè)有熔化極焊炬，將氙燈和高速攝像機分別置于所述熔化極焊炬的兩側(cè)，熔化極焊炬的焊絲末端同時位于高速攝像機的焦點和所述氙燈的焦點位置。高速攝像機的鏡頭中心、所述焊絲末端、所述氙燈的光源中心三點同軸共線。高速攝像機的鏡頭采用微距鏡頭。高速攝像機的鏡頭連接有中心頻率為632.8mm的帶通濾光片。氙燈前設(shè)有聚焦透鏡。高速攝像機連接有控制顯示裝置?？捎糜?.6MPa(相當(dāng)于60m水深)壓力環(huán)境下的GMAW熔滴過渡圖像拍攝，實現(xiàn)在0.6MPa以下的高氣壓壓縮空氣條件下，得到清晰柔和的熔滴過渡和電弧形態(tài)圖像。