機(jī)臺工藝環(huán)境的配置方法與裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210603065.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114695209A | 公開(公告)日 | 2022-07-01 |
申請公布號 | CN114695209A | 申請公布日 | 2022-07-01 |
分類號 | H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 阮正華;張劍 | 申請(專利權(quán))人 | 無錫邑文電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 226400江蘇省南通市如東縣掘港街道金山路1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)峁┮环N機(jī)臺工藝環(huán)境的配置方法與裝置,機(jī)臺包括PLC、傳送腔室和工藝腔室,方法包括:確定PLC中用于工藝環(huán)境配置的I/O點(diǎn)位,基于AI點(diǎn)位的輸入值確定傳送腔室與工藝腔室的初始壓力差,并在初始壓力差大于預(yù)設(shè)閾值的情況下,基于第一閥門配置信息對目標(biāo)閥門進(jìn)行第一開關(guān)操作,對傳送腔室和工藝腔室分別進(jìn)行抽真空操作,并在操作結(jié)束且工藝腔室與傳送腔室的當(dāng)前壓力差大于預(yù)設(shè)閾值的情況下,對當(dāng)前壓力較大的目標(biāo)腔室繼續(xù)進(jìn)行抽真空操作直至工藝腔室與傳送腔室的壓力差不大于預(yù)設(shè)閾值,基于第二閥門配置信息對目標(biāo)閥門進(jìn)行第二開關(guān)操作,并輸出工藝環(huán)境配置完成提示信息,能夠提高機(jī)臺工藝環(huán)境的配置效率和質(zhì)量。 |
