一種用于輻射成像的Gamma計(jì)數(shù)探測(cè)器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200610011914.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN101074934B 公開（公告）日 2011-10-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN101074934B 申請(qǐng)公布日 2011-10-19
分類號(hào) G01T1/16;G01N23/04 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 李元景;張清軍;趙書清;李建華;李樹偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 清華同方威視技術(shù)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100083 北京市清華同方科技廣場(chǎng)A座2907
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種用于輻射成像的Gamma計(jì)數(shù)探測(cè)器，屬于輻射檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明包括由光敏器件和閃爍晶體組成的探測(cè)器部件，與探測(cè)器部件連接的帶放大回路、比較回路、數(shù)字脈沖輸出回路的電路板和穩(wěn)壓器以及端面上置有與電路板電路連接的輸出插座及包容整體的金屬殼體。其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是，所述閃爍晶體表面涂有反射層或者置有反光材料層并與光敏器件通過光學(xué)膠耦合粘接。閃爍晶體與光敏器件的連接整體置有避光材料層并由帶減震墊的金屬盒包容，金屬盒表面亦置有避光材料層。同現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明不僅增強(qiáng)了抗干擾能力，同時(shí)可使射線入射面的成像死區(qū)減小、調(diào)節(jié)高壓和上下閾方便，與后續(xù)電路的互連方便。