輻照裝置及其控制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200710130623.0 申請日 -
公開（公告）號 CN101110280A 公開（公告）日 2008-01-23
申請公布號 CN101110280A 申請公布日 2008-01-23
分類號 G21K5/00(2006.01);G21K5/04(2006.01) 分類 核物理；核工程;
發(fā)明人 劉耀紅;唐華平;閻忻水;高建軍;高峰;張東生;梁笑天;魏德;劉晉升;賈瑋;印煒;張丹;谷沖;張慶輝 申請（專利權(quán)）人 清華同方威視技術(shù)股份有限公司
代理機構(gòu) 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所 代理人 柴毅敏
地址 100084北京市海淀區(qū)雙清路同方大廈A座2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種輻照裝置及其控制方法，該裝置包括電子加速器、與電子加速器相連接的掃描盒，在掃描盒上設有掃描磁鐵、靶和電子束出射窗，電子束出射窗位于靶的左側(cè)或右側(cè)。本發(fā)明積極效果是：本發(fā)明集現(xiàn)有的電子束引出式輻照裝置和X射線引出式輻照裝置的功能于一體，當掃描磁鐵工作時，加速器輻照裝置引出電子束流；當掃描磁鐵不工作時，則引出X射線。即可以引出電子束和X射線兩種輻照源，以滿足不同體積的輻照物品對象的加工要求。利用本發(fā)明可以在幾乎不增加成本的情況下擴大應用范圍，同時提高了系統(tǒng)的安全性能，有利于提高輻照系統(tǒng)的壽命和利用率。