鍍膜設(shè)備及其工作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110689219.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113416944A 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN113416944A 申請公布日 2021-09-21
分類號 C23C16/455（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 楊明;韓方虎;韓明新;張鶴 申請（專利權(quán)）人 江蘇微導(dǎo)納米科技股份有限公司
代理機構(gòu) 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 黎堅怡
地址 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)漓江路11號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種鍍膜設(shè)備及其工作方法，所述鍍膜設(shè)備包括多個反應(yīng)腔，且所述多個反應(yīng)腔通過同一個調(diào)壓閥與同一個工藝泵連接；所述工作方法包括：在利用所述多個反應(yīng)腔進(jìn)行鍍膜過程中，控制所述調(diào)壓閥導(dǎo)通以及所述工藝泵運行以使得所述多個反應(yīng)腔內(nèi)的壓力保持為第一預(yù)定壓力；響應(yīng)于所述調(diào)壓閥波動且所述多個反應(yīng)腔內(nèi)的鍍膜過程開始前或停止后，使所述多個反應(yīng)腔內(nèi)的壓力升高至第二預(yù)定壓力后，控制所述調(diào)壓閥導(dǎo)通以及所述工藝泵運行以使得所述多個反應(yīng)腔內(nèi)的壓力下降至第三預(yù)定壓力；其中，所述第二預(yù)定壓力大于所述第一預(yù)定壓力以及所述第三預(yù)定壓力。本申請能夠充分利用資源，提高調(diào)壓閥和工藝泵的使用率，降低成本。