一種ALD設備的噴淋裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021172322.1 申請日 -
公開（公告）號 CN214115719U 公開（公告）日 2021-09-03
申請公布號 CN214115719U 申請公布日 2021-09-03
分類號 C23C16/455（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 方鑫;嚴大;李翔;龔炳建 申請（專利權）人 江蘇微導納米科技股份有限公司
代理機構 南京知識律師事務所 代理人 朱少華
地址 214028江蘇省無錫市新吳區(qū)漓江路11號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種ALD設備的噴淋裝置，包括噴淋板和勻流板；所述勻流板上設置有若干勻流片，所述勻流片相互平行等間距布置，所述勻流片與勻流片之間的間隙形成氣流的通道；所述勻流板的兩側包括氣流流入側和氣流流出側，所述噴淋板設置于所述勻流板的氣流流入側，并朝勻流板方向噴射處于無序狀態(tài)的氣流，氣流經(jīng)過所述勻流板后由紊流狀態(tài)變?yōu)閷恿鳡顟B(tài)。本噴淋裝置結構簡單，可有效改善真空腔體內(nèi)噴淋板噴出氣流的狀態(tài)，可以解決現(xiàn)有技術中噴淋裝置無法使臭氧與氮氣混合均勻?qū)е掠瓪饬鬟匛L發(fā)黑的技術問題，它能夠保證流經(jīng)噴淋裝置的噴出的混合氣體在流經(jīng)硅片前均勻混合，提升鍍膜質(zhì)量，消除迎氣流邊EL發(fā)黑，提高產(chǎn)品良率。