PECVD雙舟系統(tǒng)及其碎片檢測方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110689218.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113416946A 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN113416946A 申請公布日 2021-09-21
分類號 C23C16/52（2006.01）I;C23C16/505（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;G01R19/165（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 韓方虎;陳強利;韓明新;潘景偉;馮登文;尤晨曦 申請（專利權(quán)）人 江蘇微導(dǎo)納米科技股份有限公司
代理機構(gòu) 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 黎堅怡
地址 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)漓江路11號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種PECVD雙舟系統(tǒng)及其碎片檢測方法。PECVD雙舟系統(tǒng)包括反應(yīng)腔、第一石墨舟和第二石墨舟，反應(yīng)腔兩端分別設(shè)有進氣口和出氣口，第一石墨舟和第二石墨舟設(shè)于反應(yīng)腔內(nèi)且沿進氣口至出氣口的方向排列；碎片檢測方法包括：對反應(yīng)腔執(zhí)行抽真空處理；使氣體注入反應(yīng)腔內(nèi)，并使反應(yīng)腔內(nèi)的壓力保持預(yù)定壓力；在第一石墨舟上施加預(yù)定電壓；獲得第二石墨舟上的電信號，并判斷電信號是否大于第一預(yù)定值；若是，則確定第一石墨舟和第二石墨舟之間存在碎片。本申請?zhí)峁┑腜ECVD雙舟系統(tǒng)及其碎片檢測方法，能夠有效檢測第一石墨舟和第二石墨舟之間是否存在碎片，從而防止石墨舟內(nèi)的硅片及舟片產(chǎn)生白色粉塵。