一種單晶硅結(jié)晶生長裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200910184959.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN102041549A | 公開(公告)日 | 2011-05-04 |
申請公布號(hào) | CN102041549A | 申請公布日 | 2011-05-04 |
分類號(hào) | C30B15/00(2006.01)I;C30B15/14(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 馬四海;張笑天 | 申請(專利權(quán))人 | 蕪湖升陽光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 241100 安徽省蕪湖縣蕪湖機(jī)械工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種單晶硅結(jié)晶生長裝置,包括保溫系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、導(dǎo)流系統(tǒng)及支撐裝置,所述的導(dǎo)流系統(tǒng)采用雙向氣流結(jié)構(gòu),所述的雙向氣流結(jié)構(gòu)包括熱屏(3)、上部排氣套筒(1)和下部氬氣出口(2)。采用上述技術(shù)方案,迅速帶走硅液表面的有害氣體,加速SiO及氧碳化合物的蒸發(fā),使得進(jìn)入固液界面的氧的含量大大降低;雙向氣流的采用,改變了普通熱場的氣體流向,可以降低熱場內(nèi)部有害氣體對石墨件的腐蝕,減少了氧與石墨的接觸面積及時(shí)間,使得硅液表面的氧碳化合物及有害氣體在下部氣體的流向帶動(dòng)下迅速帶離熱系統(tǒng),有效控制了晶體中的碳含量;降低了雜質(zhì)粒子進(jìn)入固液界面的幾率,從而大大提升了晶體的成晶率。 |
