一種基于拼接原子光刻技術(shù)的大面積自溯源光柵制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210284007.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114690298A | 公開（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114690298A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-01 |
| 分類號(hào) | G02B5/18（2006.01）I;G03F7/20（2006.01）I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 程鑫彬;鄧曉;譚文;肖光旭;唐朝輝;林子超;李同保 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 同濟(jì)大學(xué) |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上?？剖⒅R(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 200092上海市楊浦區(qū)四平路1239號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種基于拼接原子光刻技術(shù)的大面積自溯源光柵制備方法，包括以下步驟：基于原子光刻技術(shù)在基板上進(jìn)行一次原子光刻，獲得原子光刻光柵樣板；至少循環(huán)執(zhí)行一次以下操作：利用光闌的限位作用，保持會(huì)聚光指向不變，將主透鏡及當(dāng)前的原子光刻光柵樣板作為整體沿激光駐波場(chǎng)方向平移一段距離并固定，調(diào)整主透鏡使返回的會(huì)聚光形成駐波場(chǎng)并與金屬原子束待沉積區(qū)域存在重疊部分，在當(dāng)前的原子光刻光柵樣板上進(jìn)行一次原子光刻；通過相鄰次原子光刻光柵的無(wú)縫拼接，獲得大面積自溯源光柵。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有效地解決了自溯源光柵駐波場(chǎng)方向擴(kuò)展的技術(shù)問題，并具備光柵無(wú)縫銜接，擴(kuò)展空間大的優(yōu)點(diǎn)。 |
