一種磁電阻薄膜結(jié)構(gòu)和磁電阻傳感器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121291474.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215641767U | 公開(公告)日 | 2022-01-25 |
申請公布號 | CN215641767U | 申請公布日 | 2022-01-25 |
分類號 | G01R33/09(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 薛松生;沈衛(wèi)鋒;郭海平;宋晨 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇多維科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 孟金喆 |
地址 | 215634江蘇省蘇州市張家港市保稅區(qū)廣東路7號E棟 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型實施例公開了一種磁電阻薄膜結(jié)構(gòu)和磁電阻傳感器,該磁電阻薄膜結(jié)構(gòu)包括:依次層疊設(shè)置的基底、種子層、參考層、間隔層、自由層和電極層;參考層在種子層上生長,且參考層的磁矩方向受到通入種子層內(nèi)電流產(chǎn)生的自旋注入被釘扎;自由層的磁矩方向隨外部磁場的變化而變化。本實用新型實施例中,參考層生長在種子層上,電流通入種子層后會使種子層產(chǎn)生自旋流且該自旋流可注入相鄰參考層,使得參考層的磁矩方向受到通入種子層內(nèi)電流產(chǎn)生的自旋注入影響而改變并釘扎。無需外部設(shè)備輔助即可精確控制參考層的釘扎方向,能夠更加便捷的實現(xiàn)參考層的多角度釘扎,設(shè)計工藝簡單且成本低廉,更具競爭力和市場前景。 |
