一種擴(kuò)張機(jī)頂盤
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202021930707.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212587462U | 公開(公告)日 | 2021-02-23 |
申請公布號 | CN212587462U | 申請公布日 | 2021-02-23 |
分類號 | H01L21/67(2006.01)I;H01L33/00(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉光輝;李飛 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江美迪凱現(xiàn)代光電有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州華知專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張德寶 |
地址 | 317500浙江省臺州市溫嶺市產(chǎn)學(xué)研工業(yè)園科技大道 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及晶片加工技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種擴(kuò)張機(jī)頂盤,其特征在于,包括圓盤狀的頂盤本體,所述頂盤本體的上盤面呈向上拱起的弧形,所述頂盤本體內(nèi)部設(shè)有呈螺旋狀的電熱絲,所述電熱絲貼附在所述頂盤本體的上盤面的內(nèi)側(cè),所述電熱絲至少螺旋三圈。通過將頂盤的上盤面設(shè)置成稍微向上拱起的弧形,能夠避免頂盤偶爾的下凹現(xiàn)象,從而避免膜片上貼附的產(chǎn)品(晶片)變形;將呈螺旋狀的電熱絲設(shè)置成至少螺旋三圈,能夠使其在頂盤內(nèi)分布更加均勻,傳熱更加均勻,從而使上盤面對膜片加熱更加均勻,防止因加熱不均而導(dǎo)致膜片擴(kuò)張變形。?? |
