一種改善拋光片厚度散差的拋光皮
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021916980.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212794605U | 公開（公告）日 | 2021-03-26 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212794605U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-26 |
| 分類號(hào) | B24D13/14(2006.01)I | 分類 | 磨削；拋光; |
| 發(fā)明人 | 韓威風(fēng);韓巍巍;葛文志;鄧宇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 浙江美迪凱現(xiàn)代光電有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州華知專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 張德寶 |
| 地址 | 317500浙江省臺(tái)州市溫嶺市產(chǎn)學(xué)研工業(yè)園科技大道 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及拋光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種改善拋光片厚度散差的拋光皮，其特征在于，包括圓盤狀的拋光皮本體，所述拋光皮本體表面均勻開設(shè)有若干由圓心指向圓周的主凹槽，且隨著所述主凹槽的向外延伸，兩相鄰所述主凹槽之間的間距逐漸增大，所述拋光皮本體表面還開設(shè)有若干半徑不等的圓環(huán)狀的副凹槽，若干所述的副凹槽在所述拋光皮本體上同心設(shè)置。本實(shí)用新型通過在拋光皮本體表面開設(shè)從中心向外邊緣發(fā)散的主凹槽，來增加拋光皮中心部位主凹槽的分布密度，進(jìn)而增加添加到拋光皮中心部分的拋光液的量就多，進(jìn)而對(duì)處于拋光皮中心處的拋光片的拋光量就有所增加，從而彌補(bǔ)因拋光皮線速度不同而帶來的拋光厚度散差的問題。?? |
