一種顆粒物濃度測量方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910656989.4 申請日 -
公開（公告）號 CN110530766B 公開（公告）日 2020-07-17
申請公布號 CN110530766B 申請公布日 2020-07-17
分類號 G01N15/06 分類 -
發(fā)明人 熊友輝;何濤;李少勇;楊偉 申請（專利權(quán)）人 四方光電股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢知產(chǎn)時代知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 武漢四方光電科技有限公司;四方光電股份有限公司
地址 430205 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)鳳凰產(chǎn)業(yè)園鳳凰園三路3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種顆粒物濃度測量方法及裝置，通過獲取無顆粒物沉積狀態(tài)下光電轉(zhuǎn)換裝置輸出的電信號經(jīng)前置放大器A1后輸出的放大信號，確定初始基底電壓Umin～Umax；實時對光電轉(zhuǎn)換裝置輸出的電信號U1經(jīng)過前置放大器A1的基底電壓值Ut進(jìn)行檢測，并將基底電壓值Ut與初始基底電壓Umin～Umax進(jìn)行比較，并根據(jù)比較結(jié)果對電信號U1中的直流分量進(jìn)行補(bǔ)償。本發(fā)明一方面能夠克服由于顆粒物沉積產(chǎn)生的雜散光、氣流通道內(nèi)壁上產(chǎn)生的反射光對測量信號的干擾，另一方面能夠克服由于電子元器件一致性差及溫度驟變等因素造成的測量信號失真的技術(shù)問題，具有成本低、體積小巧、測量精度高的技術(shù)優(yōu)勢。