一種顆粒物濃度檢測(cè)裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201920668344.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN210293990U 公開（公告）日 2020-04-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN210293990U 申請(qǐng)公布日 2020-04-10
分類號(hào) G01N15/06 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 熊友輝;劉志強(qiáng);吳俊;宋禮攀;易海山;李明亮 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 四方光電股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢知產(chǎn)時(shí)代知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 四方光電股份有限公司
地址 430205 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)鳳凰產(chǎn)業(yè)園鳳凰園三路3號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供的一種顆粒物濃度檢測(cè)裝置，包括上下殼體、氣流通道、激光發(fā)射裝置、光電轉(zhuǎn)換裝置。其優(yōu)勢(shì)在于：經(jīng)過(guò)濾后的清潔空氣經(jīng)測(cè)量通道兩側(cè)進(jìn)入密封的鞘流通道，將清潔空氣與被測(cè)氣流隔絕，避免清潔空氣在自由空間內(nèi)擴(kuò)散；在下殼體光電轉(zhuǎn)換裝置避空區(qū)上設(shè)置導(dǎo)流板、層流片，清潔空氣通過(guò)導(dǎo)流槽從層流片下方流過(guò)，被測(cè)氣流通過(guò)導(dǎo)流板在層流片上方流過(guò)，清潔空氣形成層流(清潔屏障)對(duì)光電轉(zhuǎn)換裝置包裹及吹掃，降低了顆粒物在光電轉(zhuǎn)換裝置上沉積的機(jī)率，克服了被測(cè)氣流中的顆粒物在光電轉(zhuǎn)換裝置上沉積造成的背景噪聲大，導(dǎo)致顆粒物檢測(cè)誤判的技術(shù)問(wèn)題，達(dá)到了提高顆粒物濃度檢測(cè)的準(zhǔn)確度、穩(wěn)定性及延長(zhǎng)裝置使用壽命的技術(shù)效果。