一種深紫外LED及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110172071.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112951961B | 公開(公告)日 | 2022-07-12 |
申請公布號 | CN112951961B | 申請公布日 | 2022-07-12 |
分類號 | H01L33/14(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 霍麗艷;滕龍;吳洪浩;周瑜;劉兆 | 申請(專利權(quán))人 | 廈門乾照光電股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 361000 福建省廈門市火炬(翔安)產(chǎn)業(yè)區(qū)翔天路259-269號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種深紫外LED及其制作方法,所述深紫外LED包括:襯底;依次設(shè)置在所述襯底一側(cè)的N型半導(dǎo)體層、多量子阱層、電子阻擋層和P型半導(dǎo)體層;其中,所述電子阻擋層為稀磁材料的電子阻擋層。該稀磁材料的電子阻擋層能夠在阻擋電子的同時,對空穴的注入也起到正向的作用,提高電子和空穴的空間波函數(shù)交疊,進而提高深紫外LED的發(fā)光效率。 |
