一種高硅硅鋼片的制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510867348.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN106811730A 公開(kāi)（公告）日 2017-06-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN106811730A 申請(qǐng)公布日 2017-06-09
分類號(hào) C23C16/24(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 彭慶生 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 安徽中龍節(jié)能科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海集信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 任永武
地址 247100 安徽省池州市江南產(chǎn)業(yè)集中區(qū)鳳鳴達(dá)道以東、松花江路以北
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種高硅硅鋼片的制作方法，涉及硅鋼片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，包括如下步驟：S1、取普通硅鋼片；S2、在普通硅鋼片表面涂硅層；S3、對(duì)涂層后的硅鋼片進(jìn)行高溫?cái)U(kuò)散；S4、檢測(cè)硅含量；S5、測(cè)試處理后的硅鋼片的磁性能；本發(fā)明所公開(kāi)的高硅硅鋼片的制作方法，采用等離子化學(xué)氣相沉積法在普通硅鋼片表面涂硅層,溫度低，時(shí)間短，工藝重現(xiàn)性好，表面光潔，化合物層可達(dá)10μm以上，并有非晶態(tài)形成，能滿足0.1mm厚鋼片達(dá)6.5％Si的要求，與相同底Si的無(wú)取向硅鋼片相比，鐵損P10/50降低50％以上，其它磁性能也大有改善。