基于氮化物的半導(dǎo)體裝置和其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202180004254.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114207818A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請公布號 | CN114207818A | 申請公布日 | 2022-03-18 |
分類號 | H01L27/07(2006.01)I;H01L21/8248(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 何清源;郝榮暉;陳扶;章晉漢;黃敬源 | 申請(專利權(quán))人 | 英諾賽科(蘇州)科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳宜保知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王琴;曹玉存 |
地址 | 215211江蘇省蘇州市吳江區(qū)汾湖高新開發(fā)區(qū)新黎路98號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種基于氮化物的半導(dǎo)體裝置包含第一基于氮化物的半導(dǎo)體層、第二基于氮化物的半導(dǎo)體層、第一基于氮化物的晶體管和第二基于氮化物的晶體管。所述第一基于氮化物的晶體管應(yīng)用2DEG區(qū)域作為其溝道并且包括第一漏電極,所述第一漏電極與所述第二基于氮化物的半導(dǎo)體層接觸以與所述第二基于氮化物的半導(dǎo)體層形成第一肖特基二極管。所述第二基于氮化物的晶體管應(yīng)用所述2DEG區(qū)域作為其溝道并且包含第二漏電極,所述第二漏電極與所述第二基于氮化物的半導(dǎo)體層接觸以與所述第二基于氮化物的半導(dǎo)體層形成第二肖特基二極管,使得所述第一肖特基二極管和所述第二肖特基二極管連接到同一節(jié)點。 |
