一種高溫臭氧氧化裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022706143.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN213401112U 公開(kāi)（公告）日 2021-06-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN213401112U 申請(qǐng)公布日 2021-06-08
分類號(hào) H01L21/67 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 王振交;艾凡凡;韓培育 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州中世太新能源科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京科知維創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 許益民
地址 215121 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)蘇虹中路77號(hào)天裕工業(yè)園5棟208室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種高溫臭氧氧化裝置，該裝置用以對(duì)硅片表面進(jìn)行氧化，包括殼體、傳送組件、加熱組件和氧化組件，傳送組件用以支撐并傳送硅片，加熱組件用以加熱硅片，傳送組件和加熱組件均設(shè)置在殼體的內(nèi)部；氧化組件用以對(duì)硅片表面進(jìn)行氧化，氧化組件包括臭氧發(fā)生器、多根臭氧噴淋管和多個(gè)紫外光源，臭氧發(fā)生器設(shè)置在殼體的外部，多根臭氧噴淋管和多個(gè)紫外光源設(shè)置在殼體內(nèi)部沿硅片的移動(dòng)方向位于加熱組件后方的位置，多根臭氧噴淋管沿硅片的移動(dòng)方向依次設(shè)置在殼體的頂部，多個(gè)紫外光源沿硅片的移動(dòng)方向依次設(shè)置在殼體頂部位于相鄰兩根臭氧噴淋管中間的位置，多根臭噴淋管均與臭氧發(fā)生器連通。