氣體處理裝置、用于制膜的干程設(shè)備和制膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022839000.4 申請日 -
公開（公告）號 CN214051187U 公開（公告）日 2021-08-27
申請公布號 CN214051187U 申請公布日 2021-08-27
分類號 B01D67/00（2006.01）I;G05D27/02（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 代攀;馮春磊;丑樹人;陳亦力;韓增杰;魏貞輝 申請（專利權(quán)）人 北京碧水源膜科技有限公司
代理機構(gòu) 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 趙志遠
地址 100000北京市懷柔區(qū)雁棲經(jīng)濟開發(fā)區(qū)樂園南二街4號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種氣體處理裝置、用于制膜的干程設(shè)備和制膜設(shè)備，氣體處理裝置包括加濕部、干燥部、緩沖部和溫度控制部，加濕部用于加濕氣體，干燥部用于干燥氣體，加濕部的出氣口和干燥部的出氣口均與緩沖部連通；緩沖部的出氣口與溫度控制部的進氣口連通，溫度控制部用于控制混合氣體的溫度。氣體處理裝置能夠?qū)怏w進行處理，控制氣體的溫度、濕度，從而能夠保持干程階段氣體的穩(wěn)定性。用于制膜的干程設(shè)備采用上述的氣體處理裝置進行供氣，因此干程設(shè)備的氣體能夠保持平穩(wěn)的溫度、濕度變化，有效控制干程階段膜的表層、亞層結(jié)構(gòu)，提高成膜質(zhì)量。制膜設(shè)備采用上述的干程設(shè)備，因此能夠有效控制干程階段膜的表層、亞層結(jié)構(gòu)，提高成膜質(zhì)量。