用于金屬絲二次質(zhì)譜深度分析的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011598459.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112345623B 公開（公告）日 2021-04-16
申請(qǐng)公布號(hào) CN112345623B 申請(qǐng)公布日 2021-04-16
分類號(hào) G01N27/64 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 朱雷;華佑南;李曉旻 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 勝科納米（蘇州）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京崇智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙麗娜
地址 215000 江蘇省蘇州市中國(guó)(江蘇)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城西北區(qū)09棟507室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及材料樣品檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及用于金屬絲二次質(zhì)譜深度分析的方法，包括以下步驟：準(zhǔn)備基板，所述基板沿其長(zhǎng)度刻蝕有與所述金屬絲相適的凹槽；沿所述凹槽的長(zhǎng)度將所述金屬絲放入所述凹槽內(nèi)，并將所述金屬絲在所述凹槽內(nèi)固定；所述基板放置在二次離子質(zhì)譜儀樣品臺(tái)進(jìn)行測(cè)試；所述金屬絲的直徑為微米級(jí)。本發(fā)明通過(guò)在基板上設(shè)置凹槽，以便輔助金屬絲和質(zhì)譜儀探頭之間形成類平面結(jié)構(gòu)，這樣再進(jìn)行二次離子質(zhì)譜儀檢測(cè)，得到的圖譜中主元素層清晰分出，也同時(shí)最大減低界面混合效應(yīng)。