一種氮化物表面增強(qiáng)拉曼基片及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811310458.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN109234686A | 公開(公告)日 | 2019-01-18 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109234686A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-01-18 |
分類號(hào) | C23C14/30;C23C14/06;C23C14/58;B82Y40/00;G01N21/65 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 張政軍;趙豐通 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廣西三環(huán)高科拉曼芯片技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張文寶 |
地址 | 100084 北京市海淀區(qū)清華大學(xué) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于痕量有機(jī)物檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種氮化物表面增強(qiáng)拉曼基片及其制備方法。本發(fā)明采用傾斜生長(zhǎng)法在單晶硅等基底上生長(zhǎng)制備氮化物納米棒陣列,再采用氮?dú)鈿夥胀嘶鸱椒ㄌ嵘锘阅?。上述方法制備的氮化物基片具有良好的表面增?qiáng)拉曼效應(yīng),同時(shí)繼承了氮化物陶瓷的化學(xué)穩(wěn)定性,具備超長(zhǎng)時(shí)間的存放穩(wěn)定性。由于制備工藝簡(jiǎn)單,原材料廉價(jià)易得,易于商品化和工業(yè)化,該基片在有機(jī)物的痕量、快速檢測(cè)方面具有廣闊的應(yīng)用前景。 |
