一種發(fā)光二極管外延片制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811453957.6 申請日 -
公開（公告）號 CN109545920A 公開（公告）日 2019-03-29
申請公布號 CN109545920A 申請公布日 2019-03-29
分類號 H01L33/02（2010.01）I; H01L33/06（2010.01）I; H01L33/12（2010.01）I; H01L33/32（2010.01）I; H01L33/00（2010.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 魏曙亮 申請（專利權(quán)）人 江蘇中谷光電股份有限公司
代理機構(gòu) 上海信好專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 潘朱慧;朱成之
地址 226017 江蘇省南通市南通蘇通科技產(chǎn)業(yè)園江廣路66號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明是一種發(fā)光二極管外延片制備方法，包含以下步驟：S1、在襯底上預(yù)鍍預(yù)鍍層；S2、獲取所述預(yù)鍍層厚度；S3、根據(jù)獲取的預(yù)鍍層厚度在所述預(yù)鍍層上沉積緩沖層厚度或緩沖層中鋁組份含量；所述步驟S3中，沉積緩沖層時保持緩沖層厚度不變，調(diào)節(jié)緩沖層中金屬組份含量；或，沉積緩沖層時根據(jù)預(yù)鍍層厚度調(diào)節(jié)緩沖層厚度；S4、在所述緩沖層上沉積第一接觸層；S5、在所述第一接觸層上沉積發(fā)光層；S6、在所述發(fā)光層上沉積第二接觸層。本發(fā)明通過在襯底上預(yù)鍍預(yù)鍍層，利用在線監(jiān)測獲取預(yù)鍍層厚度并及時對緩沖層進行調(diào)節(jié)，使襯底、預(yù)鍍層、緩沖層達到最佳匹配度，從而提高產(chǎn)品品質(zhì)。