半導(dǎo)體原料清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020912443.9 申請日 -
公開（公告）號 CN213856016U 公開（公告）日 2021-08-03
申請公布號 CN213856016U 申請公布日 2021-08-03
分類號 B08B3/08（2006.01）I;B08B3/02（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 焦雪梅;馬英俊;林泉;趙靜敏;權(quán)盼;趙邦超;孟杰;楊微;鄭粉桃;聞愛清 申請（專利權(quán)）人 北京國晶輝紅外光學(xué)科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京辰權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 佟林松
地址 100088北京市海淀區(qū)北三環(huán)中路43號二區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種半導(dǎo)體原料清洗裝置，包括：盒狀本體，所述盒狀本體的底部具有鏤空結(jié)構(gòu)；噴淋裝置，設(shè)置于所述盒狀本體的上方，用于對半導(dǎo)體原料進(jìn)行噴淋沖洗；可抽拉的密封板，設(shè)置于所述鏤空結(jié)構(gòu)之間。在排酸沖水時(shí)抽去密封板同時(shí)打開高壓噴淋裝置沖洗，高壓沖洗的好處是使用水生產(chǎn)多束、多角度、強(qiáng)度各異的高壓水射流，這種水射流的速度極高，具有巨大的打擊能力，能夠更好的帶走半導(dǎo)體原料表面附著的酸溶液及酸溶液腐蝕的雜質(zhì)，這種方法減少了水資源的浪費(fèi)，大大的提高了工作效率。