一種常溫氧化還原法脫硝的裝置及其工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011616326.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112717658A 公開（公告）日 2021-04-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN112717658A 申請(qǐng)公布日 2021-04-30
分類號(hào) B01D53/75;B01D53/78;B01D53/56 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 金可剛;顏士娟;余紹華;陳曉宇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江南化防腐設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州融方專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 金磊
地址 311255 浙江省杭州市蕭山區(qū)浦陽(yáng)鎮(zhèn)十三房村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種常溫氧化還原法脫硝的裝置和工藝，包括作為主體的脫硝塔，所述的脫硝塔內(nèi)底部設(shè)有儲(chǔ)液池，位于所述的儲(chǔ)液池上方的脫硝塔左端設(shè)有進(jìn)氣口，所述的進(jìn)氣口上方設(shè)有一號(hào)填料層，所述的一號(hào)填料層上方設(shè)有一號(hào)噴淋層，所述的一號(hào)噴淋層上方設(shè)有一號(hào)除霧層，所述的一號(hào)除霧層上方設(shè)有二號(hào)填料層，所述的二號(hào)填料層上方設(shè)有二號(hào)噴淋層，所述的二號(hào)噴淋層上方設(shè)有二號(hào)除霧層，所述的脫硝塔頂部設(shè)有排氣口，所述的脫硝塔外設(shè)有配液槽，所述的配液槽旁設(shè)有NaClO2溶液高位槽。本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術(shù)中存在的傳統(tǒng)的煙氣的凈化系統(tǒng)存在運(yùn)行成本高的問題。本發(fā)明具有生產(chǎn)成本低、工藝簡(jiǎn)單、操作方便和脫硝效率高等優(yōu)點(diǎn)。