低輻射膜及其制造方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN98112627.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN1247839A 公開（公告）日 2000-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN1247839A 申請(qǐng)公布日 2000-03-22
分類號(hào) C03C17/36 分類 玻璃；礦棉或渣棉;
發(fā)明人 彭傳才;黃廣連;胡云慧;魏敏;余圣發(fā);曹志剛;李京增 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 長(zhǎng)沙國(guó)防科技大學(xué)八達(dá)薄膜電子技術(shù)研究所
代理機(jī)構(gòu) 湖南省專利服務(wù)中心 代理人 長(zhǎng)沙國(guó)防科技大學(xué)八達(dá)薄膜電子技術(shù)研究所;上海凱業(yè)立德鍍膜科技有限公司
地址 410073湖南省長(zhǎng)沙市上大垅
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及低輻射膜及其鍍膜方法。該低輻射膜是由三層組成,從靠基材的一層開始依次是金屬氧化物層,金屬反射層和ITO層。除第三層TTO鍍膜時(shí),以ITO為靶材,采用非反應(yīng)濺射成膜外,各層的鍍膜方法和設(shè)備與現(xiàn)有技術(shù)相同。本發(fā)明由于選用ITO為第三層,大大簡(jiǎn)化了鍍膜工藝。所得到的低輻射膜具有優(yōu)良的性能。